窒素ドープグラファイト化多層カーボンナノチューブ

高純度99％の窒素ドープ多層カーボンナノチューブ。

窒素をドープした多層カーボンナノチューブは、貴金属触媒の支持材料として使用されるcntの表面を活性化できます。

窒素ドープカーボンナノチューブは、触媒に広く用いられている良好な電子伝導性を有する。

化学パラジウムナノ粒子/ pdナノ粉末中国製品を触媒として99.5％で20〜30nmで製造した。

シリコンナノテクノロジー改質グラファイトカソードリチウム電池 既存のリチウム電池のカソード技術が限界に達している。新しい世代のエネルギーのニーズを満たすために、リチウム電池の新しい陰極技術の開発が切迫している。超高比容量と豊富な埋蔵量を持つシリコン・カソードは、最も代表的な新技術の1つになっています。 従来のグラファイト陰極と比較して、工業化の道にあるシリコン陰極技術の主な障害は、ゲルの含有量が低いと電極混合の効果が不十分であることです。 このため、一部の研究者はグラファイト陰極技術と シリコンナノ 新しく開発された大量生産のc-nano-sicite複合カソード材料である可能性があります。リチオ化プロセス中に、Siナノシェルを体積変化に応じて拡張することができる。グラファイト中のナノシェ中空シェル、またはグラファイトと炭素との間のナノ-Si中間層であっても形状を損なわずに保持することができ、Siとグラファイトの間に残すことができる。他方では、従来の機械的混合黒鉛粉末および残留シリコン粒子によって引き起こされる重大な副作用を避けることができる。 シリコンナノ パウダーは、一般的に、ここでは粒度 30~50nm、100~200nm、300~500nm、1μm 。中国ホンウー国際グループ有限公司 hwナノブランドは、高純度フォームと超微粒子サイズのほとんどの材料を生産することができます。私たちはまた、商業用および研究用アプリケーションおよび新しい独自の技術用のカスタム組成に加えて、要求によってカスタム仕様に材料を生産することもできます。典型的なカスタムパッケージが利用可能であり、sem、tem、coa、msdsなどの関連データを提供することができます。仕様、リードタイムおよび価格については、上記のhwnano@xuzhounano.comまでお問い合わせください。 ゴシック様式

液相はsio2ナノ粒子、20〜30nm、純度99.8％を生成する。

高純度の超微細アルミナ粉末酸化アルミニウムナノパウダーは、100-200nmのアルファ相と20-30nmのガンマ相を持っています。

非晶質ホウ素ナノ粉末bは、99％、99.9％〜99.999％の範囲の純度を有する。

高性能の省エネ電球に使用される中国の工場の価格ナノグラフェンパウダー

希土類ナノイットリア粉末は、高化学活性電子材料として広く使用されている。

産業用ナノギャップ酸化物粉末は、単層と多層の2種類がありますので、詳しくはお問い合わせください。

このジルコニア歯科用セラミックは非常に優れた特性を持っています: 化学的腐食防止、耐摩耗性、耐熱性。