窒素ドープグラファイト化多層カーボンナノチューブ

高純度99％の窒素ドープ多層カーボンナノチューブ。

窒素をドープした多層カーボンナノチューブは、貴金属触媒の支持材料として使用されるcntの表面を活性化できます。

窒素ドープカーボンナノチューブは、触媒に広く用いられている良好な電子伝導性を有する。

透明電極は、ナノ粉末を再現することができる

酸化ニッケル (Ni2O3) ナノ粒子は、光学、電気、磁気、触媒、生物学、その他の分野で広く使用されています。Hongwu Nano は、サイズが 20 ～ 30 nm、純度 99.9% の高品質で安定した品質の三二酸化ニッケル ナノ粉末を供給しています。

競争力のある価格でhw nano工場から酸化物ナノ粒子を得ることができます。

高品質の50nm 99.999％の純粋な金属ゲルマニウムナノ粉末hwnanoから販売しています。

Ptナノ粒子を含む超微細貴金属ナノ粒子の中国有数のメーカーおよびサプライヤーの1つ. 良好で安定した品質が保証され、研究のためのグラム注文のニーズと生産のための数十kgの注文の両方を満たすことができます.工場直販価格. 20nm-1umおよびPtの水分散液を提供できます. どんな必要でも私達に連絡することを歓迎します、ありがとう.

高熱伝導性アルファ酸化アルミニウムナノパウダーは、ナノセラミック材料に適用されます。

20-30nm、99.99％の純度で、半導体セラミック材料として広く使用されている。

NANO パラジウム粉末を良好な水素貯蔵として使用することができる。 その一方で、 ナノパラジウム 粉末は厚膜の導電性のための不可欠な材料です。

窒化アルミニウムは、良好な熱伝導率、信頼性の高い電気絶縁、低誘電率および誘電損失の一連の優れた特徴を有する優れた包括的な性能の新しいセラミック材料であり、非毒性のシリコンでは、半導体基板の高集積度化と電子デバイスパッケージの理想化の新世代であり、国内外の研究者の注目を集めています。 窒化アルミニウム窒化物の特徴は様々である。ナノ - 窒化アルミニウムは、高純度、小さな粒度分布、表面積、低い高い表面活性、嵩密度、および良好な射出成形特性を有する。焼成温度を低下させて寸法安定性、高硬度成分、高弾性率、高誘電率、低誘電損失、良好な熱伝導率、耐酸化性、低温性を得ることができる装置の製造に用いることができる熱膨張係数（シリコンに類似）。複合材料の場合、半導体シリコンとの良好なマッチング、界面適合性であり、複合材料の誘電特性の機械的特性および熱伝導率を改善することができる。 ナノ窒化アルミニウムの主な目的：ナノ窒化アルミニウムは、集積回路基板、電子部品、光学デバイス、ラジエータ、高温るつぼを製造するために主に使用される。金属マトリックスおよびポリマーマトリックス複合材の製造は、特に高温シーリングおよび接着性電子パッケージ材料において優れた見通しを有する。また、非鉄金属製錬および半導体材料ガリウム砒素るつぼ、蒸発ボート保護管、熱電対、高温絶縁材、マイクロ波誘電材、高温耐腐食性窒化アルミニウム構造セラミックスおよび透明マイクロ波セラミックスにも、雲母断熱材、サーマルグリース、断熱塗料、サーマルオイルなどの用途にも使用されています。 我々はナノ粒子、ナノ粉末、ミクロンパウダーの製造、研究、開発および加工に焦点を当てたハイテク企業であるhwnanoブランドを持つhongwu international group ltd。我々は、粒径40nm、100nm、1-2umおよび5-6umの粉末を有するナノ窒化アルミニウム粉末を製造することができる。すべての人に知られているように、企業にとって品質は話します。 10年以上の努力を通じて、私たちは常に革新し、改善しています。あなたが必要としているか疑問がある場合は、私たちに連絡することを躊躇しないでください。 ジェマによって