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ガラス研磨用超微細酸化セリウム CeO2 ナノ粒子

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サーモクロミック用途向けのいくつかのナノマテリアル
    サーモクロミック用途向けのいくつかのナノマテリアル

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ガラス研磨用超微細酸化セリウム CeO2 ナノ粒子

ナノ二酸化セリウム CeO2 粒子は、ガラス研磨に最も一般的に使用される研磨剤であり、ガラスや光学部品の精密機械加工に広く使用されています。あらゆる種類の光学ガラス、クリスタル ダイヤモンド、ビデオ ガラス、ガラス製品、光学材料、時計、携帯電話、携帯電話カバー ガラス セラミック ガラス研磨ガラス.

  • 製品起源:

    China
  • 商品番号.:

    P601
  • 出荷口:

    Shanghai,Guangzhou
  • 色:

    light yellow
  • リードタイム:

    in stock
  • 支払い:

    T/T, PAYPAL
製品詳細
名称: ナノ酸化セリウム、セリア
CAS番号:1306-38-3
外観:淡黄色粉末
分子量:172.13

処方:CeO2

サイズ: 30-50nm

CeO2のPSD

最も一般的で基本的な無機材料であるガラスは、コンピューターのハードディスク ガラス基板、デジタル カメラ チップ、超精密光学レンズ、光学ウィンドウ、光通信コンポーネント、フラット ディスプレイ、その他の高度な電子製品の製造に広く使用されています。 . 超平滑 (サブナノ レベルの粗さ)、フラット、微細な欠陥のないガラス表面は、これらのハイテク製品の性能にとって重要な要素となっています。

研磨は、ガラスの表面粗さを低減するための重要な手段です。ナノ二酸化セリウム CeO2 は、ガラス研磨に最も一般的に使用される研磨剤であり、ガラスや光学部品の精密機械加工に広く使用されています。各種光学ガラス、クリスタルダイヤモンド、ビデオガラス、ガラス製品、光学材料、時計、携帯電話、携帯電話カバーガラス、セラミックガラス、研磨ガラス、プリズム、電子チップ、光電材料、医療機器、ステンレス鋼、チタン合金、シリコンウェーハ、液晶ディスプレイ、半導体チップ、研磨材、航空宇宙機器、その他の精密製品の表面研削・研磨。

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