99.9％二ホウ化チタンナノ粉末（tib2）を使用した切削工具

当社のチタンホウ化物粉末は、複合セラミック材料で広く使用されている100-200nm、純度99.9％のナノサイズで入手可能です。

二ホウ化チタン粉末は99.9％の純度と高い 製造仕上げ工具等の製造に使用される硬度

tib2二ホウ化チタン粉末は、主に導電性複合材料に使用される。

二ホウ化チタン粉末は新しいセラミック材料であり、優れた物理的および化学的性能を有する。

hw nanoで100〜200nm、99.9％のtib2粉末、3-8um、99.9％の仕様が利用可能

hongwuナノは、主に100-200nm、0.8um、1-2umおよび5-6umでhbnを生成し、99％~99.8％の純度を有する。

ジルコニアセラミックスガイドプーリーは、他の材料プーリーよりも高い精度、耐摩耗性およびより長い寿命を有する

当社の超微粒子銀ナノ粒子は、必要に応じてPVPまた​​はオレイン酸でコーティングすることができます。

スーパーキャパシタ電極材料に使用される単層カーボンナノチューブ。

半導体材料に広く用いられているβ-炭化ケイ素粉末。

ナノタングステンカーバイドコバルト粉末、粒子 サイズは60nm、純度は99.9％、コバルトの割合は6,10、または 12.ミクロンサイズもカスタマイズすることができます。超硬合金に広く用いられている。

窒化アルミニウムは、良好な熱伝導率、信頼性の高い電気絶縁、低誘電率および誘電損失の一連の優れた特徴を有する優れた包括的な性能の新しいセラミック材料であり、非毒性のシリコンでは、半導体基板の高集積度化と電子デバイスパッケージの理想化の新世代であり、国内外の研究者の注目を集めています。 窒化アルミニウム窒化物の特徴は様々である。ナノ - 窒化アルミニウムは、高純度、小さな粒度分布、表面積、低い高い表面活性、嵩密度、および良好な射出成形特性を有する。焼成温度を低下させて寸法安定性、高硬度成分、高弾性率、高誘電率、低誘電損失、良好な熱伝導率、耐酸化性、低温性を得ることができる装置の製造に用いることができる熱膨張係数（シリコンに類似）。複合材料の場合、半導体シリコンとの良好なマッチング、界面適合性であり、複合材料の誘電特性の機械的特性および熱伝導率を改善することができる。 ナノ窒化アルミニウムの主な目的：ナノ窒化アルミニウムは、集積回路基板、電子部品、光学デバイス、ラジエータ、高温るつぼを製造するために主に使用される。金属マトリックスおよびポリマーマトリックス複合材の製造は、特に高温シーリングおよび接着性電子パッケージ材料において優れた見通しを有する。また、非鉄金属製錬および半導体材料ガリウム砒素るつぼ、蒸発ボート保護管、熱電対、高温絶縁材、マイクロ波誘電材、高温耐腐食性窒化アルミニウム構造セラミックスおよび透明マイクロ波セラミックスにも、雲母断熱材、サーマルグリース、断熱塗料、サーマルオイルなどの用途にも使用されています。 我々はナノ粒子、ナノ粉末、ミクロンパウダーの製造、研究、開発および加工に焦点を当てたハイテク企業であるhwnanoブランドを持つhongwu international group ltd。我々は、粒径40nm、100nm、1-2umおよび5-6umの粉末を有するナノ窒化アルミニウム粉末を製造することができる。すべての人に知られているように、企業にとって品質は話します。 10年以上の努力を通じて、私たちは常に革新し、改善しています。あなたが必要としているか疑問がある場合は、私たちに連絡することを躊躇しないでください。 ジェマによって