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より多くのナノ粒子とナノ材料

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マイクロファイバー上のznoナノワイヤアレイの成長

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  • 透明なSiO₂水性分散液

    モノ分散球状ナノSiO₂水性分散液/コロイド この透明なSiO₂水系分散液は、特許取得済みのソルゲル技術によって合成されており、優れた光学特性(可視光透過率)を有し、常温保存下で18か月以上の保存期間を備えています。電子分野ではlow-k誘電体材料として広く使用され、バイオ医療分野ではドラッグキャリアとして、また光学分野では反射防止コーティングとして利用されています。 more

  • ナノチタン亜酸化物 Ti₄O₇ 粉末

    マグネリ相ナノチタン亜酸化物 Ti₄O₇ 粉末 マグネリ相 ナノ酸化チタンサブオキシド(Ti₄O₇)は、独自の結晶構造を持つ先進的な機能材料であり、青黒色の粉末として現れ、200〜300 nmの精密に制御された粒子サイズと最大99.9%の純度を特徴とする。チタン酸化物ファミリーの重要な一員として、Ti₄O₇は優れた導電性、化学的安定性、触媒活性を兼ね備えており、新エネルギー、環境保護、エレクトロニクス分野の用途に理想的な選択肢となっている。 more

  • 窒化ホウ素ナノチューブ

    窒化ホウ素ナノチューブ(BNNTs):高熱伝導放熱フィラー BNNTsはカーボンナノチューブの管状構造を共有していますが、本質的に異なる特性を提供します:電気絶縁性、優れた熱安定性(空気中で最大900°C)、および高い熱伝導率です。約5.5 eVのワイドバンドギャップを持ち、CNTsが苦手とする領域でも一貫した予測可能な性能を提供します。 more

  • 精密セラミック3Dプリンティングソリューション

    精密セラミック3Dプリンティングソリューションは不可能な構造を現実にする 精密セラミック3Dプリンティングソリューション – セラミック製造の限界を再定義し、歯科修復から航空宇宙グレードの高温部品まで。精密セラミック3Dプリンティングは、不可能な構造を現実に変える。 more

  • ニッケル ナノワイヤー NINWS

    新しい導電性材料ニッケルナノワイヤ NINWS 香州 ニッケル ナノワイヤー 電子材料、触媒作用、ポリマー、磁気貯蔵に幅広い潜在的な用途があります。超高密度記録材料、センサーおよび 自己潤滑 材料 more

  • 抗菌ナノ銀コロイド

    透明コロイドag抗菌ナノ銀コロイド ag( 抗菌ナノ銀コロイド )されていますw 既知の抗菌、抗ウイルス、抗真菌特性は、小さな粒子サイズと大きな表面積によって強化されます。 more

  • エポキシ樹脂に使用されるナノシリカ粒子、超疎水性コーティングナノシリカ粉末

    エポキシ樹脂に使用されるナノシリカ粒子、超疎水性コーティングナノシリカ粉末 ナノシリカ粒子、20-30nm、99.8%純度、露光樹脂および超疎水性コーティングに広く使用されている。 more

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サーモクロミック用途向けのいくつかのナノマテリアル
    サーモクロミック用途向けのいくつかのナノマテリアル

サーモクロミズムとは、温度変化によって材料の色が変化する現象を指します。この変化は通常、材料の電子構造または分子構造の変化によって引き起こされます。その適用原理には主に次の側面が含まれます。 1. サーモクロミック材料の分子は、加熱されると構造的または電子的エネルギーレベルの変化を受け、その結果、特定の波長の光の吸収または反射が変化します。この変化は、分子間の相互作用を変更したり、配向や立体構造を変更したりすることなどによって実現できます。 2. サーモクロミック材料の色の変化は、化学反応の変化...

マイクロファイバー上のznoナノワイヤアレイの成長

  • November 13,2014.

ユニークな利点 ナノワイヤ どのような形状および材料の基板でも摂氏-80度で成長することができるということです.zno種子が存在する限り、極軸に沿って核生成および成長することができます。 znoナノワイヤは、無機基板やポリマーフィルムのような平坦な表面だけでなく、柔軟なマイクロファイバーのような曲面上でも成長することができます。柔軟なマイクロファイバー上のうまく設計されたナノワイヤアレイの多彩な組み立てによって、機能性テキスタイルやウェアラブルマイクロエレクトロニクス。


znoナノワイヤアレイは、カルボキシル基が存在しなかった領域上でのみ選択的に核生成し、成長することができた。これはプロトン化されたhmta種が表面カルボン酸基と組み合わされて、これらのUV放射領域でのznoの核生成を妨げるからである。


また、au、agおよびptのような触媒上で合成することもできる。このような金属はナノワイヤの成長を達成するために薄膜としてポリメチン基板上に堆積させることができる。この場合、薄膜の表面粗さを注意深く制御して核形成を促進しなければならない。加えて、ナノワイヤの配向は、主に表面トポグラフィの関数である。垂直に配列されたナノワイヤを達成するために、平滑な基板表面に適切なプロセスフローを使用しなければならない。



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